预计明年二月份该厂就能具备量产十四纳米工艺的能力！”
“到时候，我们又能够再增加五万片的月产能。”
徐申学听罢道：“这样的话，那么等到明年初，我们的十四纳米工艺产能应该有十四万片了，嗯，不错，差不多初期够用了！”
丁成军道：“不仅仅够我们自己用，而且还能够为华威以及AMD以及其他客户提供十四纳米工艺的产能了，我们已经接到了全球范围二十款十四纳米工艺芯片的代工合作订单，并且我们的客户还在持续增长当中。”
十四万片的产能，这已经算是相当可以了，毕竟这种顶级工艺的产能提升，投资是非常大的，寻常晶圆厂想要提升产能可没有那么容易。
有了智云微电子这边的充足产能保障，那么明天智云半导体那边就可以面对所有客户来一句：W906敞开了卖，而且还是现货，只要你给钱，你可以直接去仓库拉走！
这对于W906芯片的上市后销售，将会带来巨大的正面积极作用！
尤其是在骁龙820芯片，因为采用四星的十四纳米工艺代工，同时又因为四星的独占期，优先供货等限制，明年上半年的骁龙820芯片，大概率是没有办法向其他手机厂商大规模供货的。
这就给了W906芯片的继续开拓市场，争夺订单的巨大武器！
有时候市场竞争也很简单的，尤其是对于这种先进工艺的旗舰芯片而言，竞争订单往往只需要简单一句话：我有现货！
当然，明年不管是骁龙820也好，智云W906也罢，它们都是属于十四纳米工艺的芯片，包括后续华威的自研芯片也是十四纳米工艺的芯片。
但是智云的S系列手机，却是会采用更新一代的工艺，即十二纳米工艺！
准确的说，这其实是14纳米工艺的改进版，一开始的研发代号是14N工艺，按照英特尔，台积电，四星他们的分类来算，依旧是属于十四纳米工艺节点。
不过智云微电子这边为了市场营销，直接把这个14N工艺，称之为12纳米工艺了。
该工艺将会在明年第二季度顺利投产，然后生产12纳米工艺的S706芯片……因为没啥太大实际性的技术变化，因此连工厂都不带变的，还是通城第十八号厂。
第十八号厂稍作改进，就能生产所谓的12纳米工艺。
当然，这个12纳米工艺在技术上，还是比14纳米工艺先进一些，生产出来的芯片性能也更强，主要是单位面积的功耗进一步降低。
这功耗降低对于SOC这种手机芯片而言还是很重要的。
功耗降低的话，散热更好了，那么芯片就可以做的稍微大一些，堆积的晶体管数量也更多，最后以提升性能。
明年用这个十二纳米工艺，而后年的话，不出意外将会使用全新一代的工艺节点，也就是十纳米工艺。
智云微电子这边真正的下一代工艺节点，其实是十纳米工艺节点……不仅仅是智云如此，英特尔，台积电，四星都是把下一代工艺节点放在了十纳米工艺上。
目前在十纳米工艺节点上，智云微电子这边的进展还算顺利，第二十一号厂主体部分都已经完成，目前还处于设备的安装调试阶段，预计明年年中就能完成工厂的准备工作，然后配合工艺部门进行十纳米工艺的各种研发测试，一切顺利的话，后年第一季度将会大规模量产。
再往后的话，则是七纳米工艺了，这个更难一些，需要的时间也更久……毕竟这个工艺节点的话，使用DUV浸润式光刻机来生产，就需要采用四重曝光了。
而这种先进的光刻机，ASML那边预计要明年年初才能够陆续向智云微电子交货，不过一开始也就一台，然后陆续会交付第二台，第三台，预计一直要到后年第一季度，才会交货完毕。
整个交货时间，会拉长到一年以上！
交货期之所以拉着时间长，还是零星的一台一台的交货，那是因为先进DUV浸润式光刻机关系重大，几大半导体厂商现在斗法的很厉害，谁也不愿意落后。
而根据徐申学和美财团那边达成的临时口头协议，DUV浸润式光刻机这东西得轮流交货……大家都一起用！
不然就和EUV光刻机一样，大家都没得用！
因此ASML目前是同步向智云微电子，台积电，英特尔，四星这四家厂商提供这种先进光刻机，而且还是一台一台的轮流交货，直到初期这一批的订单交付完毕为止！
而这款ASML那边的先进DUV浸润式光刻机，足以满足四重曝光生产，能够用来生产7纳米芯片的光刻机……乃是智云微电子，同样也是其他几家半导体制造厂商搞七纳米芯片的关键设备。
当然，智云微电子订购ASML的这款光刻机，那只是为了稳一手……实际上不出大意外的话，明年年底海湾科技就能够开始为智云微电子提供HDUV-600型光刻机。
这种光刻机足以生产7纳米芯片。
只是为了避免意外，智云微电子先订购了一批ASML的先进光刻机而已。
不管是用ASML的光刻机，还是用海湾科技的光刻机，只要有其中一种，那么智云微电子就能够把这个四重曝光技术给弄出来，进而造出等效七纳米工艺的芯片。
这个时间节点，应该是在后年年底，而大规模量产的话，估计要大后年的第一季度。
也就是说，等到18年，智云推出新一代的S18手机的时候，大概率就能够搭载等效7纳米工艺的手机SOC。
而且，不出意外的话，其中一部分的等效7纳米工艺的芯片，还会是海湾科技的HDUV-600型光刻机所生产的。